此时的贾老板似乎并没有在意VCD的事情，因为此时他已经被倪光南给缠住了。

“老板，这一次是千载难逢的机会，我们必须要拿下ASML呀！”倪光南在贾老板的耳边不断的重复道，听得贾老板耳朵里面都要起茧子了。

就在昨天，ASML公布了一个在半导体界可谓是举世瞩目的消息，那就是ASML推出了FPA2500，一款193nm的波长扫描曝光机，光学光刻分辨率，达到了70nm的级别，这个举世瞩目的无敌成就。

ASML，是全球最顶尖的光刻机生产商，生产着全球最优秀的光刻机。

光刻机是制作一枚电子芯片最重要的设备，没有之一。

众所周知，一枚电脑芯片，说白了就是一个巨型的集成电路，在这个集成电路上面放置了几十万几百万甚至上千万的微晶体管。

一枚电脑芯片的大小，不过手掌的1/4左右，想要在这样一个小小的电脑芯片上面集成上千万的微晶体管，从而拥有强大的计算能力，那每一个晶体管都渺小到让人难以想象的程度。

如何将这些微晶体集成在这么小小的一片芯片上面，就成为了电脑芯片制造最高的技术！

现在所有的芯片都是使用高晶硅来制作的，所以制作一枚芯片的第1步，就是将石英提纯制作成纯硅，然后制成硅晶棒，最后将其切片就是芯片制作具体需要的晶圆。

第2步是在晶圆上面涂一层薄膜。晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力，而这一层的薄膜，就是未来几千万个微晶体管的模板。

第3步，就是光刻机大展身手的时候了，通过光刻机，将晶圆光刻显影、蚀刻。

之前在晶圆上面涂的那一层薄膜，在性质上对紫外光格外敏感的，只要一遇到紫外光，就会立刻变软，然后可以通过简单的清洗，就能够被清洗掉。

而光刻机的作用，就相当于预先设置好一幅各种微晶体管排列的图案，其中的每一道线条，都直接被遮蔽住，然后当这样的紫外线光照射在晶圆上的时候。

那些被紫外线光照射过的薄膜，就被直接变软溶解，使用特殊溶剂就可以直接冲洗掉。

而没有被紫外线光照射过的部分，就依然能够保持着那一部分的薄膜的存在，让他继续附着在晶圆的表面。

这就和印章的原理有些相似，你把印章在物体表面上用力一盖，纸上就出现了详细的图案了。

第四步就是搀加杂质，将晶圆中植入离子，生成相应的P、N类半导体，将那些被没有被薄膜给遮蔽住的位置，进行各种各样的特殊处理，然后就生产出了一个个具有不同功能的微晶体管出来了。

最后进行检测和封装，然后一枚具有强悍的计算能力的芯片就这么诞生了。

光刻机的原理，简单的说，就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用，这就是光刻的作用。

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如果上面这一大段内容你看不明白，不要紧，下面有更加简单的便于理解的解释。

简单的说，一枚芯片的计算能力取决于这枚芯片的晶圆上面具有多少的微晶体管，微晶体管的数目越多，那么这枚芯片的计算能力就越强。

比如各国的那些超级电脑，芯片中就含有数目极为惊人的微晶体管。比如2018年米国的某个最强超级电脑，它的芯片上就足足拥有73.728万亿个晶体管。当然了，这是有9216个CPU并列组成的，并不是将这么多晶体管刻在同一个芯片上面。

一般来说，到了2020年，家用机的CPU中都含有10亿以上的微晶体管，而在1993年，这个数量也是千万级别以上的数量，在30年间，微晶体管的数量翻了100倍以上。

可一个CPU的大小就那么大，只有手掌1/4的面积，那么每一个微晶体管的体积和尺寸势必会无比的渺小，在2020年，这个尺寸的标准是5纳米。而在1993年，这个尺寸的标准是140纳米。

光刻机的作用，就是能够将一个个纳米级别的微晶体管，刻印在一块小小的晶圆上面。当然了，具体的过程不是刻印这么简单，如果想要详细理解清楚的话可以看看上面的解释，没兴趣的话，就直接略过，反正可以这么理解就对了。

于是乎，对于一台光刻机来说，他能够刻印的极限光学分辨率有多么的渺小，那这款光刻机的能力就有多么的强悍。

之前说过，1994年的现在，光刻机的最高尺寸，是光学分辨率能够达到140纳米的光刻机。

但是现在，AMSL推出了最新的型号，是光学分辨率能够达到70纳米的超级光刻机。

而现在，购