都必须要解决的。”

“5nm，全国产，短时间根本就没有可能啊！”

苏父虽然刚接触整个行业，但这甚至都是尽人皆知的事情了，国内但凡有一点机会能做到，麒麟也不会这么快就凉凉不是。

翟竖苦笑不已，行业的情况他可是比苏父要清楚的多。

按照台积电的经验，5nm制程工艺必须要极紫外EUV光刻机是一定的，但问题仅仅就只是光刻机吗？

英特尔和三星也有同款光刻机，但制作出来的产品差远了！

前道制造所需要的材料，如硅片、电子特种气体、光刻胶、抛光材料、高纯湿电子化学品、靶材等等等等一系列的东西都非常的重要。

芯片制造的流程热处理、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、抛光、清洗、检测，这每一个过程都需要极其专业且高端的设备。

在这整个链条中，国内能做到顶尖的也就是刻蚀了，其他的距离顶尖都有很大的差距。

翟竖当然知道短时间内不可能做到5nm，别的不说，光是EUV，给沪州微电子十年都不一定能搞得出来。

别说极紫外光刻机EUV了，就连DUV能够实现28nm精度光刻的800系列都已经跳票好多次了。

“不管可能还是不可能，那都必须努力去尝试。”翟竖正色道：

“我这次过来，也是想趁着购买光刻机的机会，跟沪州微电子的工程师们了解一下情况，看看到底是哪个环节出了什么问题。”

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